製品の説明
シクロヘキサンとは何ですか?
シクロヘキサンは、低い表面張力と溶解度が高い無色の揮発性有機溶媒です。そのCAS数は{{{0}}}、einecs数は203-806-2、化学式はc₆h₁₂、分子量は84.16です。密度は0.77、融点は6.5度、沸点は81度です。引火点は-18程度で、水にほとんど不溶性で、37.7度の蒸気圧は168.8 mmHg、空気と比較して蒸気密度は2.9です。


基本情報
| CAS番号 | 110-82-7 |
| einecs番号 | 203-806-2 |
| 化学式 | C₆H₁₂ |
| 分子量 | 84.16 |
| 密度 | 0.77 |
| 融点 | 6.5度 |
| 沸点 | 81度 |
| 引火点 | -18程度 |
用途
シクロヘキサンには、フォトレジスト溶媒として次の利点があります。
- 良好な溶解度:フォトレジストの樹脂や光増感剤などのさまざまな成分に良好な溶解度があり、これらの成分を溶液に均等に分散させて、安定した均一なフォトレジストシステムを形成することができます。
- 低沸点と揮発性:沸点は約81度で、比較的低いです。フォトレジストがコーティングされた後、それは迅速に蒸発する可能性があるため、レジストフィルムを迅速に乾燥させ、処理時間を短縮し、生産効率を改善します。さらに、フォトリソグラフィーのプロセス中に、光化学反応とパターン移動の精度は溶媒残基の影響を受けません。
- 化学物質の安定性が高い:化学物質の安定性が高く、フォトレジストの成分と化学的に反応するのは容易ではなく、フォトリソグラフィのプロセス中に光、発達などの条件下で分解または劣化するのは簡単ではありません。フォトレジストのパフォーマンスの安定性を確保し、フォトリソグラフィパターンの品質と精度を確保できます。
- 低表面の張力:シクロヘキサンには低表面の張力があります。これにより、フォトレジストの溶液がコーティング中に基質表面によく広がり、均一で平らな抵抗膜の形成が可能になります。
- 費用対効果:幅広いソースを備えた比較的一般的で安価な有機溶媒です。大量生産フォトレジストの場合、シクロヘキサンを溶媒として使用すると、生産コストを削減し、経済的な実用性が良好です。
安全情報
点火源から遠ざけてください。
目との接触は避けてください。
静電気の生成を防ぐために予防措置を講じます。
この材料とその容器を有害廃棄物として処分します。
環境へのリリースは避けてください。特別な指示/安全データシートを参照してください。
飲み込んだ場合は、嘔吐を誘発しないでください。すぐに医学的アドバイスを求め、コンテナまたはラベルを表示します。
容器を十分に換気のある場所に保管してください。

会社概要
Gneebio植物化学物質と細かい化学物質の研究、開発、生産、販売に特化した企業です。私たちの工場は2016年に設立され、河南省に位置し、3,600平方メートルの面積をカバーしています。 10年以上のR&D経験を持つ、装備が整っており、高品質のR&Dチームがあります。私たちの試薬製品は、米国、ロシア、カナダ、オーストラリア、ヨーロッパなどを含む多くの国に広く輸出されており、お客様に迅速な輸送サービスを提供しています。将来、より多くの友人と長期的かつ相互に有益な協力を確立し、お客様に最高の製品とサービスを提供したいと考えています。
私たちの人気のある製品には、有機化学物質が含まれます。cas:3327-22-8 cta, CAS 27126-76-7フェニルヨードソソヒドロキシ酸化酸、Catalyst:cas 110-02-1チオフェン、とりわけ。




よくある質問
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