フォトレジスト溶媒としての液体シクロヘキサン CAS 110-82-7

製品説明

シクロヘキサンとは何ですか?

シクロヘキサンは、表面張力が低く、溶解度が高い無色の揮発性有機溶媒です。 CAS番号は110-82-7、EINECS番号は203-806-2、化学式はC₆H₁₂、分子量は84.16です。密度は0.77、融点は6.5度、沸点は81度です。引火点は-18度、水にはほとんど溶けず、37.7度での蒸気圧は168.8mmHg、空気に対する蒸気密度は2.9です。

基本情報

用途

シクロヘキサンはフォトレジスト溶媒として次のような利点があります。

• 良好な溶解性：フォトレジスト中の樹脂や感光剤などのさまざまな成分に対して良好な溶解性を示し、これらの成分を溶液中に均一に分散させて安定で均一なフォトレジスト系を形成することができ、その後の基板上への均一なレジスト膜の形成に役立ちます。
• 沸点が低く揮発性が高い：沸点は約81度と比較的低いです。フォトレジストは塗布後、蒸発が早いため、レジスト膜の乾燥が早く、処理時間が短縮され、生産効率が向上します。さらに、フォトリソグラフィープロセス中、光化学反応とパターン転写の精度は溶剤残留物の影響を受けません。
• 高い化学的安定性：化学的安定性が高く、フォトレジスト中の成分と化学反応しにくく、フォトリソグラフィー工程における光や現像などの条件下でも分解・劣化しにくいです。フォトレジストの性能の安定性を確保し、フォトリソグラフィーパターンの品質と精度を保証します。
• 低表面張力：シクロヘキサンは表面張力が低いため、塗布時にフォトレジスト溶液が基板表面に広がりやすくなり、均一で平坦なレジスト膜が​​形成されます。これは、フォトリソグラフィーの解像度を向上させ、膜厚の不均一や表面の凹凸によって引き起こされるパターン欠陥を軽減するのに役立ちます。
• 費用対効果-: 比較的一般的で安価な有機溶媒であり、さまざまなソースが存在します。フォトレジストを大量生産する場合、溶媒としてシクロヘキサンを使用すると、生産コストを削減でき、経済的にも優れています。

安全性に関する情報

発火源から遠ざけてください。
目との接触を避けてください。
静電気の発生を防ぐための予防措置を講じてください。
この物質とその容器は有害廃棄物として廃棄してください。
環境への放出を避けてください。特別な指示/安全データシートを参照してください。
飲み込んだ場合は吐かせないでください。直ちに医師の診察を受け、容器またはラベルを見せてください。
容器は換気の良い場所に保管してください。-

会社概要

グネビオ当社の工場は2016年に設立され、河南省に位置し、面積は3,600平方メートルです。当社には、10 年以上の研究開発経験を持つ、-設備の整った、{6}}質の高い専門的な研究開発チームがいます。私たちの試薬製品は米国、ロシア、カナダ、オーストラリア、ヨーロッパなどを含む多くの国に広く輸出されており、お客様に迅速な配送サービスを提供しています。私たちは、将来的により多くの友人たちと長期的かつ互恵的な協力関係を築き、お客様に最高の製品とサービスを提供したいと考えています。{2}}

当社の人気のある製品には、有機化学薬品が含まれます。CAS: 3327-22-8 CTA, CAS 27126-76-7 フェニルヨードソヒドロキシトシル酸塩、触媒:CAS 110-02-1 チオフェン、とりわけ。

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